美姑硬质氧化整流机小型微型机
2024-4-2 2:03:22发布次查看发布人:
美姑硬质氧化整流机小型微型机可控硅整流器:主电路采用三相桥或双反星形带平衡电抗器电路(或三相五柱式)。可控硅元件采用大功率元件,节能显著。主控制系统采用大板高槛抗干扰、大规模集成控制板;模块及集成元件全部采用进口,可靠性高。具有自动稳压、稳流,稳定精度优于1%。具有0~60s软起动,电镀氧化着色时间可任意设定,自动定时。采用多相整流,减小输出电压纹波系数ru,特别适应于镀硬铬工艺,表面光洁度好,镀层厚度均匀。冷却方式:水冷、风冷、自冷。3、脉冲电源设备:脉冲电源主要是由嵌入式单片计算机等进行控制,因此,除实现脉冲输出之外,一般具备多种控制功能。(1)自动稳流稳压。传统硅整流器电流或电压无法自动稳定,随电网电压的波动而波动。而脉冲电源则拥有高精度的自动调节功能,脉冲电源输出电压可以几乎不变。脉冲电源的自动调节功能一般具有二种模式:一,恒电流限压模式。二,恒电压限流模式。(2)多段式运行模式。铝阳极氧化或硬铬电镀时,往往需要进行反向电解、大电流冲击、阶梯送电等操作。具有多段式运行模式的脉冲电源则只需提前设定,生产时可自动按顺序进行自动调节。这一功能对硬铬电镀是非常有用的,每一段时间可在0~255秒内调节设定。(3)双向脉冲功能。正负脉冲频率、占空比、正反向输出时间均可调节,使用灵活、方便。配合硬铬电镀工艺,可获得不同物理性能的镀层。(4)直流叠加功能。输出正反向脉冲电流的同时,由同一台电源叠加输出一纯直流成分,更拓宽了脉冲电源的使用范围及用途。可控硅整流器:主电路采用三相桥或双反星形带平衡电抗器电路(或三相五柱式)。可控硅元件采用大功率元件,节能显著。主控制系统采用大板高槛抗干扰、大规模集成控制板;模块及集成元件全部采用进口,可靠性高。具有自动稳压、稳流,稳定精度优于1%。具有0~60s软起动,电镀氧化着色时间可任意设定,自动定时。采用多相整流,减小输出电压纹波系数ru,特别适应于镀硬铬工艺,表面光洁度好,镀层厚度均匀。冷却方式:水冷、风冷、自冷。
美姑硬质氧化整流机小型微型机3、脉冲电源设备:脉冲电源主要是由嵌入式单片计算机等进行控制,因此,除实现脉冲输出之外,一般具备多种控制功能。(1)自动稳流稳压。传统硅整流器电流或电压无法自动稳定,随电网电压的波动而波动。而脉冲电源则拥有高精度的自动调节功能,脉冲电源输出电压可以几乎不变。脉冲电源的自动调节功能一般具有二种模式:一,恒电流限压模式。二,恒电压限流模式。(2)多段式运行模式。铝阳极氧化或硬铬电镀时,往往需要进行反向电解、大电流冲击、阶梯送电等操作。具有多段式运行模式的脉冲电源则只需提前设定,生产时可自动按顺序进行自动调节。这一功能对硬铬电镀是非常有用的,每一段时间可在0~255秒内调节设定。(3)双向脉冲功能。正负脉冲频率、占空比、正反向输出时间均可调节,使用灵活、方便。配合硬铬电镀工艺,可获得不同物理性能的镀层。(4)直流叠加功能。输出正反向脉冲电流的同时,由同一台电源叠加输出一纯直流成分,更拓宽了脉冲电源的使用范围及用途。ddjsbmcl光亮镀镍对整流输出纹波系数要求没有镀铬和光亮酸性镀铜那样高,但也确实需要采用普通低纹波输出直流电源,才能确保光亮镀镍层质量,且能保证后续套铬的质量硫酸盐光亮酸性镀锡本身就是不易镀好的镀种,其原因是大生产中易引入杂质且不好处理(包括四价锡离子)、允许温度范围窄,目前光亮剂多数不理想,该工艺也要求采用低纹波系数直流电源,否则会出现与光亮酸性镀铜相类似的故障。
美姑硬质氧化整流机小型微型机整流器负荷率对文波系数的影响:工作电流越接近整流器的额定电流,波形越平滑,选择整流器时应根据工艺要求选取额定输出电源电压接近大需求值,保证整流电源输出纹波系数始终保持在较低值。晶闸管(可控硅):在我国工农业生产和民用方面主要应用在:交流调压、可控整流以及无触点功率静态开关等领域。交流调压是利用晶闸管(可控硅)的开关特性替代老式的接触调压器、感应调压器和电抗器调压,用晶闸管(可控硅)实现交流到可变交流之间的变换叫交流调压。其主要用于温度控制,灯光控制以及交流电动机调压速等领域。可控整流是用晶闸管(可控硅)组成的整流器可以在交流电压不变的情况下,方便的改变直流输出电压的大小即可控整流。晶闸管可控硅可控整流已取代直流发电机组用于直流拖动调速装置,广泛应用于轧钢、电解、电镀、机床、造纸、纺织、励磁等领域。1、整流器的基本类型:硅整流器:硅整流器使用历史长,技术成熟,目前是整流器主流产品。各种整流电路获得的均是脉动直流电,不是纯直流。为了比较脉动成份的多少,一般用纹波系数来表示,其数值越小,交流成份越少,越接近纯直流。各种整流电路的波动系数不同。其由大到小的次序为:三相半波整流、三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反星形整流。可控硅利用改变可控硅管导通角来调整输出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管输出的是间断脉冲波,其纹波系数的受导通角控制,输出纹波系数大于普通硅整流电路。
可控硅整流器:是一种以可控硅(晶闸管)为基础,以智能数字控制电路为核心的交流变直流的可控整流电器。简称整流器。又称晶闸管整流器、可控硅整流器、电镀整流器等。具有效率高、无机械噪声和磨损、响应速度快体积小、重量轻等诸多优点。
可控硅整流器:主电路采用三相桥或双反星形带平衡电抗器电路(或三相五柱式)。可控硅元件采用大功率元件,节能显著。主控制系统采用大板高槛抗干扰、大规模集成控制板;模块及集成元件全部采用进口,可靠性高。具有自动稳压、稳流,稳定精度优于1%。具有0~60s软起动,电镀氧化着色时间可任意设定,自动定时。采用多相整流,减小输出电压纹波系数ru,特别适应于镀硬铬工艺,表面光洁度好,镀层厚度均匀。冷却方式:水冷、风冷、自冷。
晶闸管全称晶体闸流管(又称可控硅,英文缩写scr):是一种功率半导体器件。它具有容量大、效率高、可控性好、寿命长以及体积小等诸多优点,是弱电控制和被控强电之间的桥梁。从节能的观点出发,电力电子技术被誉为新电气技术。我国的能源利用率较低,按国民生产单产能耗计算,我国则是法国的4.98倍、日本的4.43倍,因此以晶闸管(可控硅)为核心的电气控制装置的普及使用是我国有效节约电能的一项重要措施。
晶闸管(可控硅):在我国工农业生产和民用方面主要应用在:交流调压、可控整流以及无触点功率静态开关等领域。交流调压是利用晶闸管(可控硅)的开关特性替代老式的接触调压器、感应调压器和电抗器调压,用晶闸管(可控硅)实现交流到可变交流之间的变换叫交流调压。其主要用于温度控制,灯光控制以及交流电动机调压速等领域。可控整流是用晶闸管(可控硅)组成的整流器可以在交流电压不变的情况下,方便的改变直流输出电压的大小即可控整流。晶闸管可控硅可控整流已取代直流发电机组用于直流拖动调速装置,广泛应用于轧钢、电解、电镀、机床、造纸、纺织、励磁等领域。
电镀属于电解加工过程,电源的因素必将对电镀工艺过程产生直接影响,电镀电源在电镀工艺中具有重要地位。电镀电源和低纹波系数整流电源在电镀行业中的应用,让电镀界同仁在选择整流电源、解决电镀故障、提高电镀质量有所帮助。
1、整流器的基本类型:硅整流器:硅整流器使用历史长,技术成熟,目前是整流器主流产品。各种整流电路获得的均是脉动直流电,不是纯直流。为了比较脉动成份的多少,一般用纹波系数来表示,其数值越小,交流成份越少,越接近纯直流。各种整流电路的波动系数不同。其由大到小的次序为:三相半波整流、三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反星形整流。可控硅利用改变可控硅管导通角来调整输出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管输出的是间断脉冲波,其纹波系数的受导通角控制,输出纹波系数大于普通硅整流电路。
2、开关电源:开关电源兼有硅整流器的波形平滑性优点及可控硅整流器的调压方便的优点,电流效率高体积小,数千安培至上万安培的大功率开关电源已进入生产实用阶段。开关电源其频率已达音频,通过滤波实现低纹波输出更为简便易行。而且稳流、稳压等功能更易实现。因此,开关电源是今后发展的方向。
3、脉冲电源设备:脉冲电源主要是由嵌入式单片计算机等进行控制,因此,除实现脉冲输出之外,一般具备多种控制功能。(1)自动稳流稳压。传统硅整流器电流或电压无法自动稳定,随电网电压的波动而波动。而脉冲电源则拥有高精度的自动调节功能,脉冲电源输出电压可以几乎不变。脉冲电源的自动调节功能一般具有二种模式:一,恒电流限压模式。二,恒电压限流模式。(2)多段式运行模式。铝阳极氧化或硬铬电镀时,往往需要进行反向电解、大电流冲击、阶梯送电等操作。具有多段式运行模式的脉冲电源则只需提前设定,生产时可自动按顺序进行自动调节。这一功能对硬铬电镀是非常有用的,每一段时间可在0~255秒内调节设定。(3)双向脉冲功能。正负脉冲频率、占空比、正反向输出时间均可调节,使用灵活、方便。配合硬铬电镀工艺,可获得不同物理性能的镀层。(4)直流叠加功能。输出正反向脉冲电流的同时,由同一台电源叠加输出一纯直流成分,更拓宽了脉冲电源的使用范围及用途。
4、电镀电源对电镀工艺的影响:直流电源波形对电镀质量有突出的影响各类电镀工艺中,镀铬是受电源波形影响大的镀种之一。镀铬必须采用低纹波直流电源,否则光亮范围窄,镀层易发花、发灰。在使用高效镀硬铬添加剂时,产生微裂纹铬层,输出纹波过大时,裂纹不细密且分布不均匀,达不到要求的裂纹数。
光亮镀铜都有一个规律:从赫尔槽试片上看,阴极电流密度越大的地方,镀层光亮整平性越好;电流密度越低,光亮整平性越差。试图扩展低电流密度区光亮范围,同时降低高流密度区光亮度,光亮均匀好。在实践中,采用同样的配方、工艺条件,使用相同的光亮剂,得到的光亮整平性与光亮范围,却可能出现较大差异,这与所用直流电源输出纹波系数大小有很大关系。
光亮镀镍对整流输出纹波系数要求没有镀铬和光亮酸性镀铜那样高,但也确实需要采用普通低纹波输出直流电源,才能确保光亮镀镍层质量,且能保证后续套铬的质量硫酸盐光亮酸性镀锡本身就是不易镀好的镀种,其原因是大生产中易引入杂质且不好处理(包括四价锡离子)、允许温度范围窄,目前光亮剂多数不理想,该工艺也要求采用低纹波系数直流电源,否则会出现与光亮酸性镀铜相类似的故障。
镀液温升问题:纹波系数大的直流电源及脉冲电源往往会加快温升。纹波系数越大,其谐波分量也越大,能产生大量欧姆热,加快了镀液温升,采用平滑直流有利于将低镀槽温度。
整流器负荷率对文波系数的影响:工作电流越接近整流器的额定电流,波形越平滑,选择整流器时应根据工艺要求选取额定输出电源电压接近大需求值,保证整流电源输出纹波系数始终保持在较低值。
美姑硬质氧化整流机小型微型机镀液温升问题:纹波系数大的直流电源及脉冲电源往往会加快温升。纹波系数越大,其谐波分量也越大,能产生大量欧姆热,加快了镀液温升,采用平滑直流有利于将低镀槽温度。可控硅整流器:主电路采用三相桥或双反星形带平衡电抗器电路(或三相五柱式)。可控硅元件采用大功率元件,节能显著。主控制系统采用大板高槛抗干扰、大规模集成控制板;模块及集成元件全部采用进口,可靠性高。具有自动稳压、稳流,稳定精度优于1%。具有0~60s软起动,电镀氧化着色时间可任意设定,自动定时。采用多相整流,减小输出电压纹波系数ru,特别适应于镀硬铬工艺,表面光洁度好,镀层厚度均匀。冷却方式:水冷、风冷、自冷。1、整流器的基本类型:硅整流器:硅整流器使用历史长,技术成熟,目前是整流器主流产品。各种整流电路获得的均是脉动直流电,不是纯直流。为了比较脉动成份的多少,一般用纹波系数来表示,其数值越小,交流成份越少,越接近纯直流。各种整流电路的波动系数不同。其由大到小的次序为:三相半波整流、三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反星形整流。可控硅利用改变可控硅管导通角来调整输出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管输出的是间断脉冲波,其纹波系数的受导通角控制,输出纹波系数大于普通硅整流电路。
美姑硬质氧化整流机小型微型机2、开关电源:开关电源兼有硅整流器的波形平滑性优点及可控硅整流器的调压方便的优点,电流效率高体积小,数千安培至上万安培的大功率开关电源已进入生产实用阶段。开关电源其频率已达音频,通过滤波实现低纹波输出更为简便易行。而且稳流、稳压等功能更易实现。因此,开关电源是今后发展的方向。电镀属于电解加工过程,电源的因素必将对电镀工艺过程产生直接影响,电镀电源在电镀工艺中具有重要地位。电镀电源和低纹波系数整流电源在电镀行业中的应用,让电镀界同仁在选择整流电源、解决电镀故障、提高电镀质量有所帮助。可控硅整流器:主电路采用三相桥或双反星形带平衡电抗器电路(或三相五柱式)。可控硅元件采用大功率元件,节能显著。主控制系统采用大板高槛抗干扰、大规模集成控制板;模块及集成元件全部采用进口,可靠性高。具有自动稳压、稳流,稳定精度优于1%。具有0~60s软起动,电镀氧化着色时间可任意设定,自动定时。采用多相整流,减小输出电压纹波系数ru,特别适应于镀硬铬工艺,表面光洁度好,镀层厚度均匀。冷却方式:水冷、风冷、自冷。
美姑硬质氧化整流机小型微型机光亮镀镍对整流输出纹波系数要求没有镀铬和光亮酸性镀铜那样高,但也确实需要采用普通低纹波输出直流电源,才能确保光亮镀镍层质量,且能保证后续套铬的质量硫酸盐光亮酸性镀锡本身就是不易镀好的镀种,其原因是大生产中易引入杂质且不好处理(包括四价锡离子)、允许温度范围窄,目前光亮剂多数不理想,该工艺也要求采用低纹波系数直流电源,否则会出现与光亮酸性镀铜相类似的故障。电镀属于电解加工过程,电源的因素必将对电镀工艺过程产生直接影响,电镀电源在电镀工艺中具有重要地位。电镀电源和低纹波系数整流电源在电镀行业中的应用,让电镀界同仁在选择整流电源、解决电镀故障、提高电镀质量有所帮助。2、开关电源:开关电源兼有硅整流器的波形平滑性优点及可控硅整流器的调压方便的优点,电流效率高体积小,数千安培至上万安培的大功率开关电源已进入生产实用阶段。开关电源其频率已达音频,通过滤波实现低纹波输出更为简便易行。而且稳流、稳压等功能更易实现。因此,开关电源是今后发展的方向。
ddjsbmcl
该用户其它信息