sentech仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。 si 500 ppd是电容平板式pecvd等离子沉积设备，主要用于sio2，sioxny，siny，a-si，sic薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。
图1、si 500 ppd 设备外形图
系统配置： • 电源13.56 mhz, 600 w
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 mfc控制气路(sih4, nh3, n2o, o2, ar, cf4)
• 预真空锁loadlock， 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
• 上电极和下电极分别加热，具备高的长期可靠性和工艺重复性
• 基底温度20ºc至350ºc
• 远程控制(rfc)
• sentech高级等离子设备操作软件
 
图2、si 500 ppd 控制软件
 
选项： • 可选低频应力调节
• cassette到cassette操作方式
• 穿墙式安装
• 在线椭偏测量(se 401, se 801)
 
     
图3、膜厚均匀性                  

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