savina mx用于轻松应对时代的需求，同时具备足以应对超级洁净室中的极限无尘条件的出色功能.
高科技领域正日益精密和复杂。对于lsi和lcd等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。savina mx能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。savina mx具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能**的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。
超级高收缩、高密度整理产品
savina mx的横截面                               savinamx的表面
savina mx在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
特　色
掉毛量极少。迅速而积极地吸收并留住水分。残留离子和其他物质的溶解率较低。具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量**，同时不会污染无尘室设备）。用　途
光磁盘、硬盘和软盘的生产过程液晶偏转板以及其他物品的生产过程光盘和磁盘的生产过程录像机的生产过程隐形眼镜的生产过程相机装配线印刷电路板的清洁工艺相机镜头镀膜前的清洁工艺药品生产线清洁工艺电影胶片清洁工艺半导体和基础电路的生产过程精密涂层之前工件的清洁过程

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