加工定制是	品牌德国SENTECH
型号Etchlab SI 200 / SI 591	用途等离子刻蚀机

rie反应离子刻蚀etchlab 200
特点：
经济型等离子刻蚀设备
可升级预真空锁loadlock
可升级涡轮泵
sentech控制软件
8" 晶圆和晶圆托架
反应离子刻蚀etchlab200是经济型基础等离子刻蚀机，适用于研发领域的干法刻蚀应用。采用模块化设计，可按照用户需求升级其真空系统、真空锁和供气系统以适应复杂应用。
    etchlab 200模块化设计，直接装载晶圆，使其对任何工艺都操作简单、灵活运用。基本配置的典型应用有刻蚀电介质膜(sio2, si3n4), 半导体(si), 聚合物和金属材料(au, pt, ti, ni)等。
rie反应离子刻蚀 si 591
   反应离子刻蚀机si 591采用模块化设计，可满足iii/v半导体和si加工工艺领域的的灵活应用。 sentech si 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中，能够完成多种刻蚀加工。
主要特点: 
高均匀性和优重复性的蚀刻工艺
预真空锁loadlock
电脑控制操作
sentech高级等离子设备操作软件
数据资料记录
穿墙式安装方式
刻蚀终点探测

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