- 产品等级:高纯氧化铝
- 含量:99.999
- 型号:Al2O3 99.999
- 提供加工定制:
- 产商/产地:北京冠金利
- 用途:真空溅射
- 包装规格:真空包装
- 执行质量标准:ISO9001
- CAS:3275-23-8
1、 氧化铝颗粒,高纯氧化铝颗粒,高纯氧化铝
2、 北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯氧化铝靶材,高纯氧化铝靶,氧化铝粉末,高纯氧化铝颗粒,高纯氧化铝压片等相关产品,相应产品规格如下:高纯氧化铝靶材,粉末,压片的纯度为99.99%,和99.999%.
3、 高纯氧化铝粉末:纳米级高纯氧化铝粉末,微米级高纯氧化铝粉末等。
4、 高纯氧化铝靶材的常用尺寸为:ø76.2*5、ø100*4等。
5、 高纯氧化铝颗粒:1、、-3、、,3、、-5、、,5目-1300目等尺寸,,高纯氧化铝晶体颗粒,分为透明晶体,半透明晶体,乳白色晶体。
6、 高纯氧化铝压片:常用高纯氧化铝压片尺寸有ø10*6,ø10*8,ø8*6等。
7、 高纯氧化铝相关参数简介:纯度:99.9%-99.999%
8、 外观: 无色透明颗粒 ,白色粉末,分子量: 101.96,密度 3.、、 g/c、、 熔点: 2040℃ 沸点: 5500℃
9、 蒸汽压力:在1900℃时 1 pa 在2200℃时 10 pa 线膨胀系数:6.1×10-6/k ,比热 (27℃):0.78 j/gk
10、硬度(摩氏): 9 (克氏)1370 kg/、、2 蒸发温度:2000 ~ 2200 ℃ 蒸发速率 :1 nm/s 氧分压 :10-2 pa 透明波段:200~5000 nm 折射率 (500nm) :1.5~1.、、 蒸发条件:电子、蒸发
11、 应用领域:增透膜、多层膜,干涉膜,保护膜等
北京冠金利高纯陶瓷溅射靶材简介
氧化物陶瓷靶:
一氧化硅靶sio 二氧化硅靶sio2 氧化镁靶mgo 氧化铁靶fe2o3
氧化铬靶cr2o3 氧化锌靶zno 氧化铈靶ceo2 氧化锆靶zro2
氧化铌靶nb2o5 二氧化钛靶tio2 二氧化铪靶hfo2 三氧化钨靶wo3
氧化铝靶al2o3 氧化钽靶ta2o5
非氧化物陶瓷靶:
氮化硅靶si3n4 氮化钛靶tin 氮化铝靶aln 氮化硼靶bn
碳化硅靶sic 碳化钛tic 碳化铪hfc 碳化锆zrc
碳化铌nbc 碳化钽tac
二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼
钛酸钡靶batio3 钛酸镧靶latio3 钛酸镨靶prtio3 铌酸锂靶 硒化锌靶znse 氟化钇靶yf3 氟化镁靶mgf2等陶瓷靶材。
北京冠金利陶瓷靶材纯度一般为99.9%,99.99%等,采用先进工艺设备,例如等静压,喷射,喷涂,热压等再烧结致密,为各种溅射设备提供高质量的靶材,如有需要请来电咨询,北京冠金利期待与您合作愉快,谢谢。
北京冠金利高纯陶瓷溅射靶材简介
氧化物陶瓷靶:
一氧化硅靶sio 二氧化硅靶sio2 氧化镁靶mgo 氧化铁靶fe2o3
氧化铬靶cr2o3 氧化锌靶zno 氧化铈靶ceo2 氧化锆靶zro2
氧化铌靶nb2o5 二氧化钛靶tio2 二氧化铪靶hfo2 三氧化钨靶wo3
氧化铝靶al2o3 氧化钽靶ta2o5
非氧化物陶瓷靶:
氮化硅靶si3n4 氮化钛靶tin 氮化铝靶aln 氮化硼靶bn
碳化硅靶sic 碳化钛tic 碳化铪hfc 碳化锆zrc
碳化铌nbc 碳化钽tac
二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼
钛酸钡靶batio3 钛酸镧靶latio3 钛酸镨靶prtio3 铌酸锂靶 硒化锌靶znse 氟化钇靶yf3 氟化镁靶mgf2等陶瓷靶材。
北京冠金利陶瓷靶材纯度一般为99.9%,99.99%等,采用先进工艺设备,例如等静压,喷射,喷涂,热压等再烧结致密,为各种溅射设备提供高质量的靶材,如有需要请来电咨询,北京冠金利期待与您合作愉快,谢谢。
北京冠金利新材料科技有限公司
吴先生
13683591369
北京市昌平区沙河工业园
