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冠金利4N氧化铝靶材(Al2O3靶材)5N氧化铝靶材(99.999%氧化铝靶材)

2021-7-9 19:51:14发布39次查看
  • 产品等级:高纯氧化铝
  • 含量:99.999
  • 型号:Al2O3 99.999
  • 提供加工定制:
  • 产商/产地:北京冠金利
  • 用途:真空溅射
  • 包装规格:真空包装
  • 执行质量标准:ISO9001
  • CAS:3275-23-8

1、  氧化铝颗粒,高纯氧化铝颗粒,高纯氧化铝
2、  北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯氧化铝靶材,高纯氧化铝靶,氧化铝粉末,高纯氧化铝颗粒,高纯氧化铝压片等相关产品,相应产品规格如下:高纯氧化铝靶材,粉末,压片的纯度为99.99%,和99.999%.
3、  高纯氧化铝粉末:纳米级高纯氧化铝粉末,微米级高纯氧化铝粉末等。
4、  高纯氧化铝靶材的常用尺寸为:ø76.2*5、ø100*4等。
5、  高纯氧化铝颗粒:1、、-3、、,3、、-5、、,5目-1300目等尺寸,,高纯氧化铝晶体颗粒,分为透明晶体,半透明晶体,乳白色晶体。
6、  高纯氧化铝压片:常用高纯氧化铝压片尺寸有ø10*6,ø10*8,ø8*6等。
7、 高纯氧化铝相关参数简介:纯度:99.9%-99.999%
8、 外观: 无色透明颗粒 ,白色粉末,分子量: 101.96,密度 3.、、 g/c、、  熔点: 2040℃ 沸点: 5500℃
9、  蒸汽压力:在1900℃时 1 pa  在2200℃时 10 pa 线膨胀系数:6.1×10-6/k ,比热 (27℃):0.78 j/gk
10、硬度(摩氏): 9  (克氏)1370 kg/、、2 蒸发温度:2000 ~ 2200 ℃ 蒸发速率 :1 nm/s   氧分压 :10-2 pa  透明波段:200~5000 nm 折射率 (500nm) :1.5~1.、、    蒸发条件:电子、蒸发
11、 应用领域:增透膜、多层膜,干涉膜,保护膜等
北京冠金利高纯陶瓷溅射靶材简介
氧化物陶瓷靶:
一氧化硅靶sio    二氧化硅靶sio2   氧化镁靶mgo     氧化铁靶fe2o3
氧化铬靶cr2o3    氧化锌靶zno    氧化铈靶ceo2     氧化锆靶zro2
氧化铌靶nb2o5    二氧化钛靶tio2   二氧化铪靶hfo2   三氧化钨靶wo3
氧化铝靶al2o3     氧化钽靶ta2o5
非氧化物陶瓷靶:
氮化硅靶si3n4  氮化钛靶tin  氮化铝靶aln   氮化硼靶bn
碳化硅靶sic    碳化钛tic    碳化铪hfc      碳化锆zrc
碳化铌nbc    碳化钽tac
二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼
钛酸钡靶batio3 钛酸镧靶latio3 钛酸镨靶prtio3 铌酸锂靶   硒化锌靶znse 氟化钇靶yf3  氟化镁靶mgf2等陶瓷靶材。
北京冠金利陶瓷靶材纯度一般为99.9%,99.99%等,采用先进工艺设备,例如等静压,喷射,喷涂,热压等再烧结致密,为各种溅射设备提供高质量的靶材,如有需要请来电咨询,北京冠金利期待与您合作愉快,谢谢。
北京冠金利高纯陶瓷溅射靶材简介
氧化物陶瓷靶:
一氧化硅靶sio   二氧化硅靶sio2  氧化镁靶mgo    氧化铁靶fe2o3
氧化铬靶cr2o3   氧化锌靶zno     氧化铈靶ceo2    氧化锆靶zro2
氧化铌靶nb2o5   二氧化钛靶tio2  二氧化铪靶hfo2  三氧化钨靶wo3
氧化铝靶al2o3    氧化钽靶ta2o5
非氧化物陶瓷靶:
氮化硅靶si3n4 氮化钛靶tin 氮化铝靶aln  氮化硼靶bn
碳化硅靶sic   碳化钛tic    碳化铪hfc      碳化锆zrc
碳化铌nbc    碳化钽tac
二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼
钛酸钡靶batio3 钛酸镧靶latio3 钛酸镨靶prtio3 铌酸锂靶   硒化锌靶znse 氟化钇靶yf3  氟化镁靶mgf2等陶瓷靶材。
北京冠金利陶瓷靶材纯度一般为99.9%,99.99%等,采用先进工艺设备,例如等静压,喷射,喷涂,热压等再烧结致密,为各种溅射设备提供高质量的靶材,如有需要请来电咨询,北京冠金利期待与您合作愉快,谢谢。

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