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大平台工业显微镜配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰，衬度好。是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为高级工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、dic观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、fpd、精密模具的检测分析。
                      技术规格
观察头
  30°铰链式三目（50mm-75mm）
目镜
  wf10×/25mm
wf10×/20mm,带0.1mm十字分划板
转换器
  带dic插孔明暗场五孔转换器
物镜
 平场无限远长工作距离明暗场物镜：5×/0.1b.d/w.d.29.4mm 
                                                                  10×/0.25b.d/w.d.16mm
                                                                  20×/0.40b.d/w.d.10.6mm
                                                                  40×/0.60b.d/w.d.5.4mm
平台
  双层移动平台
平台尺寸: 350mm×310mm
移动范围：250mm×250mm
滤色片
  插板式滤色片（绿、蓝、中性）
调焦
  粗、微动同轴调焦，采用齿轮齿条传动机构 微动格值0.002mm
光源
 落射照明：带孔径光栏和视场光栏，卤素灯12v/100w，ac85v-230v亮度可调节
偏光装置
  检偏镜可360度转动，起偏镜、检偏镜均可移出光路
检测工具
  0.01mm测微尺
可供附件
  目镜：wf15×/17mm、wf20×/12.5mm
300万、500万、900万、1400万像素cmos芯片数字摄像头
平场无限远长工作距离明暗场物镜:50×/0.55b.d/w.d.5.1mm、
 80×/0.75b.d/w.d.4mm、100×/0.80b.d/w.d.3mm
二维测量软件
专业金相图像分析软件
dic（10×、20×、40×、100×）
摄影装置及ccd接口0.5×、0.57×、0.75×
压平机
彩色ccd 芯片 300万，500万，800万像素摄像头
ub5000 特点说明
1．  采用了uis高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2．  拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，并在每一 
       观察法中均提供高清晰的图像质量。
3．  采用非球面kohler照明，增加观察亮度。
4．  wf10x（φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。
5．  可插dic微分干涉装置的转换器。

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