1热缺陷（晶格位置缺陷）在晶体点阵的正常格点位出现空位，不该有质点的位置出现了质点（间隙质点）。2组成缺陷外来质点（杂质）取代正常质点位置或进入正常结点的间隙位置。3 电荷缺陷晶体中某些质点个别电子处于激发状态山东天岳先进材料科技有限公司，有的离开原来质点，形成自由电子 山东天岳先进材料，在原来电子轨道上留下了电子空穴。符号及反应方程式1.缺陷符号及缺陷反应方程式缺陷符号以二元化合物mx为例（1）晶格空位：正常结点位没有质点，vm，vx（2）间隙离子：除正常结点位置外的位置出现了质点，mi，xx（3）错位离子：m排列在x位置山东天岳半绝缘材料，或x排列在m位置上，若处在正常结点位置上，则mm，xx（4）取代离子：外来杂质l进入晶体中，若取代m，则lm，若取代x，则lx，若占据间隙位，则li。（5）自由电子e’（代表存在一个负电荷），表示有效电荷。晶体（5）电子空穴 h·(代表存在一个正电荷)，·表示有效正电荷
碳化硅初级产品粉末主要用于陶瓷和高耐热材料领域，属于高能耗产品，目前国家已取消碳化硅粉末的5％出口退税，碳化硅有黑碳化硅和绿碳化硅两个常用的基本品种，都属α-sic。①黑碳化硅含sic约98.5％，其韧性高于绿碳化硅，大多用于加工抗张强度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、铸铁和有色金属等。②绿碳化硅含sic99％以上，自锐性好，大多用于加工硬质合金、钛合金和光学玻璃，也用于珩磨汽缸套和精磨高速钢刀具。此外还有立方碳化硅，它是以特殊工艺制取的黄绿色晶体，用以制作的磨具适于轴承的超精加工，可使表面粗糙度从ra32～0.16微米一次加工到ra0.04～0.02微米。碳化硅主要有四大应用领域，即: 功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。目前碳化硅粗料已能大量供应， 不能算高新技术产品天岳，而技术含量极高的纳米级碳化硅粉体的应用时间短未能形成规模经济
(1)   作为磨料，可用来做磨具，如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。
(2)    作为冶金脱氧剂和耐高温材料。
(3)    高纯度的单晶，可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。
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