磁控溅射/蒸发真空膜镀膜两用设备
此设备利用磁控溅射阴极辉光放电将原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气相沉积pvd）和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对基材、手机壳等塑料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用，以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准；
设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射，、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率高快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，磨擦系数低，可保持原有工件表面光洁，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点，主要适用于电脑、手机、高端工业（家用）电子电器、航空等领域，，可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。
磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。
        该设备具有：结构合理，膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产效率高、操作方便，能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括：abs、ps、pp、pc、pvc、尼龙、金属、波丽、玻璃、陶瓷、tpu等。

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遵化富森钛金设备有限公司
郭亚平
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