磁控溅射台是具有特殊结构设计的产品，用于金属薄膜的淀积。采用本设备能使均匀性和靶材使用效率大大提高，适用于科研和小规模生产。 
　　sp-8a型磁控溅射台是一种经长期实践检验、性能优良的科研和生产两用型设备，它可用于各种金属薄膜(如au、ag、pt、w、mo、ta、ti、al、si、ito等)的淀积，与普通溅射台相比，它具有以下优点：
　　1）采用分子泵机组抽真空，真空度高，无油污染。
　　2）具有三个靶座，可同时溅射两种金属，可形成多层复合膜或实现金属共溅射。
　　3）片子可旋转，不仅可以提高均匀性，而且可以降低片子上的温度，特别适合于用剥离(lift-off) 技术制备各种难腐蚀金属的亚微米图形(如au、pt、ta、超导材料等)。
　　4）用两个质量流量计控制气流量，可实现气体准确混合，提高工艺重复性。可外接4种气体(如ar、o2、n2等)
　　5）溅射时间可预置设定，用数字定时器定时。
　　6）可加工φ2-4英寸的片子。由于采取了独特的结构，均匀性好是其突出的优点。
配置及指标：
　　1）射频电源1500w，频率13.56mhz。直流电源2000w，共两种电源, 功率可调。带匹配器和定时器。
　　2）真空室直径600mm，三个靶座。可旋转载片架，可做4英寸片。
　　3）本底真空度优于 5×10-5 pa。
　　4）采用1200升/秒分子泵及8升/秒机械泵组成的真空系统。
　　5）用碘钨灯加热，温度设定可控，数字显示。
　　6）均匀性误差：± 4 %( 4英寸内 )
　　可根据用户具体要求协商调整配置，可提供溅射工艺咨询和提供上述剥离技术。
　　本机具有极高的性能/价格比，得到国内科研单位及高校用户的好评。
产品应用利用离子镀技术可以在金属、合金、导电材料，甚至非导电材料基体上进行镀膜。广泛适用于不锈钢展架，不锈钢散件，门花，花洒，把手，水暖五金，精细模具，刀具，钻头等，离子镀沉积的膜层可以是金属膜、多元合金模、化合物膜；既可镀单一膜层，也可镀复合膜层，还可以镀梯度膜层和纳米多层镀层。采用不同的膜材、不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数，可以获得表面强化的硬质耐磨镀层、致密且化学性质稳定的耐蚀镀层、固体润滑镀层、特殊功能镀层。常用膜系包括tin、zrn、tialn、tic、ticn、crn、al2o3等，此外，还有更坚硬的类金刚石（dlc）、tib2和碳氮（cnx）膜。装饰镀膜可镀膜200多种颜色，常用有钛金，玫瑰金，香槟金，日本金，炫银，宝石兰，玫瑰红，等各种高亮度颜色等。

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遵化富森钛金设备有限公司
郭亚平
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