日本伯东株式会社，成立于1953 年，全球范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司系日本伯东株式会社在中国投资的全资公司，公司主要从事半导体设备、电子零部件等加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿人民币。伯东企业（上海）有限公司的总部在上海，同时在中国的北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门都设有办事机构。
伯东企业(上海)有限公司真空产品事业部销售众多国际知名真空品牌，代理品牌包含：德国 pfeiffer 全系列真空产品、美国 kri 考夫曼离子源、美国 brooks  polycold 制冷机，美国hva真空阀门，美国 intest温度气流控制设备，日本 ns 离子蚀刻机，真空镀膜系统及配套真空零配件等。
上海伯东作为众多国际知名真空品牌指定授权代理商，负责在中国地区的销售同时提供完善的售后维修服务。公司在上海，深圳及厦门等全国重要区域都设有我们产品的销售和维修中心，可为广大客户提供全系列产品的维护及保养服务工作，100%使用原厂进口零件以及国外受训维修工程师；拥有完全的拆解，维修，校正能力并提供24小时在线服务。
上海伯东是美国考夫曼公司 kri 离子源大中华地区总代理,离子源发明人 dr.kaufman 考夫曼博士1960 年发明离子源并将此专利授权 veeco 生产,1978 年 dr.kaufman 博士在美国自行创立考夫曼公司kaufman & robinson.inc (kri) 生产离子源.2014年 veeco宣布关闭旗下离子源部分生产工厂
美国考夫曼公司 kri 离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利,型号包含考夫曼离子源gridded ion beam source;霍尔离子源 griddless ion beamsource.美国考夫曼公司 kri 离子源广泛应用于友厂,如德国普发 pfeiffer vacuum classic镀膜机,龙翩真空 lung pien 镀膜机,4wave离子刻蚀机等.
美国考夫曼公司 kri 离子源主要优点:
考夫曼离子源:高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单次使用长久,耗材成本极低,操作安装简易.
霍尔离子源:高离子浓度低离子能量,离子束涵盖面积广,镀膜均匀性佳,模块化设计,增加光学膜后折射率,操作安装简易.
美国考夫曼公司 kri 离子源主要应用于
1.光学镀膜 oc（optical coating ）
  推荐霍尔离子源 eh 200,eh 400,eh 1000,eh 5000f
2.离子源助镀 ibad (ion beam assisted deposition)
  推荐霍尔离子源 eh 1010f,eh 1020f
3.离子溅镀 ibsd (ion beam sputter deposition)
  推荐考夫曼离子源 rficp 40,rficp 100,rficp 300;kdc 10,kdc40,kdc 75
4.离子刻蚀 ibe (ion beametching)
考夫曼离子源 rficp 40,rficp100,rficp 140,rficp 200,rficp 300
上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售（德国普发 pfeiffer机械泵,分子泵;美国 polycold 低温泵）,真空系统检漏(德国普发 pfeiffer氦质谱检漏仪),真空阀门选配（美国 hva 超高真空阀门,德国普发 pfeiffer真空阀门）,蒸镀源选型（美国考夫曼公司 kri离子源）等等.
上海伯东主要经营产品：德国普发 pfeiffer涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空计,真空规管;氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪;以及美国 hva 真空阀门, polycold冷冻机,gamma 离子泵和美国考夫曼公司 kri 离子源 离子枪霍尔源
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东：叶小姐                   台湾伯东：林先生
t: +86-21-5046-3511 ext 109        t: +886-3-567-9508 ext 168
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