- 蜗轮齿数：
- 样品或现货：
- 是否标准件：
- 加工贸易形式：1000
- 提供加工定制：
- 加工能力：1000
- 主要加工设备：1000
- 加工设备数量：100000
光阻主要由树脂(resin)，感光剂(sensitizer)，溶剂(solvant)三种成分混合而成。
光阻种类: 光阻分为正光阻及负光阻两种。
1. 正光阻:光阻本身难溶于显影液，曝光后解离成小分子，形成容易溶于显影液的结构。
2. 负光阻: 曝光后形成不容易溶于显影液的结构。
用途: lcdtv、液晶显示器、手持触控产品、车载、公共显示器面板之原料.。
一般array photo process 对正型光阻的需求如下:
1. 涂布coating: thickness uniformity andmura free.
2. 曝光exposure: photospeed.
3. development: thickness loss, taper andprocess window.
4. postbaking: heat resistance andreflow.
5. etching: etching resistance andadhesion.
6. stripping: resistremovability.
东莞市华特光学材料有限公司
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