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问题回馈：
1．我们是led制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。
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有几款胶很，nr7-1500p
nr7-3000p是专门为离子蚀刻
光刻胶的应用
光刻胶的应用
     1975年，美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年，德国的伊默克公司也制定了mos标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重，光刻胶nr9-1000py，分别适用于不同级别ic的制作要求。其中，semi标准更早取得世界范围内的普遍认可。光刻胶的重要性
在北京化工大学理学院院长聂俊眼里，我国虽然已成为世界半导体生产大国，但面板产业整体产业链仍较为落后。目前，上游电子化学品（lcd用光刻胶）几乎全部依赖进口，光刻胶nr9-1000p?，必须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程，光刻胶nr9-1500p?，才能支撑我国微电子产业未来发展及国际“地位”的确立。
“假如我们把光刻机比作一把菜刀，那么光刻胶就好比是要切割的菜，没有高质量的菜，即使有了锋利的菜刀，也无法做出一道佳肴。”日前，江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。
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