目前全球范围内光刻掩膜版主要以专业生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，大面积苏打铬板，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由专业的生产商进行生产。
　　据统计：根据 semi， 目前全球半导体光刻掩膜版市场规模近 34 亿美元，即 210 亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在 5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。
　　从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。
光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称 mask 或 photomask），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细化学品，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液。）把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝i光在感光胶上，被曝i光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝i光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，徐州铬板，其生产加工工序为：曝i光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
接触式光学微影技术所使用的光罩，普通苏打铬板，其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行曝i光；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍，经由光学系统投射的方式对光阻进行曝i光。
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