光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶(又称光致抗蚀剂)，是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。
市场规模
中国半导体产业稳定增长，全球半导体产业向中国转移。据wsts和sia统计数据，2016年中国半导体市场规模为1659.0亿美元，光刻胶，增速达9.2%，大于全球增长速度（1.1%）。2016年中国半导体制造用光刻胶市场规模为19.55亿元，其配套材料市场规模为20.24亿元。预计2017和2018年半导体制造用光刻胶市场规模将分别达到19.76亿元和23.15亿元，光刻胶 正胶，其配套材料市场规模将分别达到22.64亿元和29.36亿元。在28nm生产线产能尚未得到释放之前，光刻胶 品牌，arf光刻胶仍是市场主流半导体应用广泛，需求增长持续性强。近些年来，全球半导体厂商在中国大陆投设多家工厂，如台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等。诸多半导体工厂的设立，光刻胶 厂家，也拉动了国内半导体光刻胶市场需求增长。
lcd市场助力
全球lcd面板总出货面积增长，lcd光刻胶需求增加。据witsview数据，虽然近三年国际lcd厂商面板出货量有所下降，但是由于大屏显示的市场扩增，lcd整体出货面积变大，2016年出货总面积达到1.7亿平方米，同比增长4.6%。随着lcd出货面积的持续增长，中国产业信息网预测，未来几年全球lcd光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据lcd市场比重越来越大，国内lcd光刻胶需求也会持续增长。
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