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什么是掩膜
首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，光刻板，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。
　　半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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菲林特点及适用用途菲林特点及适用用途...内鼓结构，保证套位准确;单光源成像，保证网点准确、均匀，密度稳定，可输出各种网点形状（圆形网点、方形网点、方圆混合网点等），各种网线（10-625线）。适合彩色胶版印刷、树脂版印刷丝网印刷、移印转印等多种用途。
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