pcb稳定
pcb被誉为电子产品之母，广泛应用于各个电子终端。2016年，光刻胶，全球pcb市场规模达542.1亿美元。国外研究机构预测，pcb市场年复合增长率可达3%，到2020年，pcb全球市场规模将达到610亿美元；中国在2020年pcb产值有望达到311亿美元，在2015-2020年期间，年复合增长率略高于国际市场，为3.5%。得益于pcb行业发展刚需，我国pcb光刻胶需求空间巨大。
五、曝光
在这一步中，将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光刻胶被照射区域（感光区域）、负光刻胶未被照射的区域（非感光区）化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域，在下一步的能够溶解于特定的显影液中。
在接受光照后，光刻胶 负胶，正性光刻胶中的感光剂dq会发生光化学反应，变为乙烯酮，并进一步水解为茚并羧酸（indene-carboxylic-acid， ca），羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍，产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度，就可以进行掩膜图形的转移。
曝光方法：
a、接触式曝光（contact printing）掩膜板直接与光刻胶层接触。
b、接近式曝光（proximity printing）掩膜板与光刻胶层的略微分开，大约为10～50μm。
c、投影式曝光（projection printing）。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现曝光。
d、步进式曝光(stepper)
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，pmma（pmgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
 目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括 futurrex、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
 
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