低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
加热浴槽 产品详情
提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体，以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。
低温恒温循环器
低温恒温循环器
特别适用与化学反应釜、发酵罐、旋转蒸发器、电子显微镜、阿贝折先仪、蒸发皿、生物制药反应器等实验设备配套使用。
先进的内循环和外循环泵系统，内循环使仪器温度均匀恒定，外循环泵输出16升/分~18升/分在流量高、低温液体。8升~40升的工作槽容积内还可放入装有生化试剂或被测样品的各种容器，直接进行高低温试验或测试，实现一机多用。
加热制冷循环浴槽 rt2/rt4
refrigerated / heating bath circulators
-外观紧凑，低噪音，内槽空间大
-操作使用简单，三键式便捷操作
-同时具有加热和制冷功能
-pid温度控制技术；
-1.5kw的加热功率，能够快速升温到设定值；
-具有较强的泵功率，可以使用外循环温控，可以设定内外循环流量比
-全工作温度范围内的过温安全保护功能
-液位浮子提供低液位报警功能，当液位过低时，声光报警并切断电源防止干烧
-待机模式及仪器自动启动模式两种工作模式可选
-前置浴液排放口，方便及时更换浴液；
-良好的内部原件布置和宽敞的散热空间，保证控制器长期稳定运行
-高品质不锈钢加热盘管，耐腐蚀，不结水垢
-active cooling control全程制冷技术，在其工作温度范围内，任何需要制冷的时刻，制冷系统都可以激活制冷功能
-r134a 无氟环保型制冷剂。
型 号 温度范围 温度稳定性 加热功率 制冷功率 流量/压力泵/吸力泵 充液体积 浴槽体积
单位 °c °c w w l/min bar bar litros wxl/d cm
i therm-b1 室温+5~95 ±0.05 1500 --- 10/0.23 4.5 15×15/15
i therm-b3 室温+5~95 ±0.05 1500 --- 10/0.23 12 18×30/15
i therm-b5 室温+5~95 ±0.05 1500 --- 10/0.23 18 36×30/15
i therm-5m 室温+5~100 ±0.05 1500 --- 10/0.23 5 12×14/15
i therm-13m 室温+5~100 ±0.05 1500 --- 10/0.23 13 18×30/15
i therm-19m 室温+5~100 ±0.05 1500 --- 10/0.23 19 36×30/15
型号
rt2 rt4
描述
加热制冷循环器 加热制冷循环器
订货号
9vt1r02 9vt1r04
工作温度范围 ℃ -20~+95 -25~+95
温度稳定性 ℃ ±0.05 ±0.05
加热功率 w 1500 1500
泵功率 l 10 10
流量/泵压 mbar 230 230
制冷功率
20℃
10℃
0℃
-10℃
-20℃
w 150
140
110
100
50 300
280
220
170
70
容积 l 4-6 4~6
浴槽开口wxl cm 12.5x11.5 12.5x11.5
浴槽深度 cm 19 19
重量 kg 24 24
体积 wxl/h cm 22.5x42/62 22.5x42/62