这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空uhv条件多功能fib系统,既可以配置为扫描电子显微镜sem,也可以配置为结合sem和高性能聚焦离子束fib的双束平台
聚焦离子束蚀刻系统 产品详情
这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空uhv条件多功能fib系统,既可以配置为扫描电子显微镜sem,也可以配置为结合sem和高性能聚焦离子束fib的双束平台。
这套聚焦离子束蚀刻系统采用模块化结构，允许大量选择符合终端用户特定需求和目标的sem和fib柱。为要求无污染环境的样品提供、完整和定制的fib纳米加工、表面分析解决方案。
聚焦离子束蚀刻系统特点
全高真空设计-无污染：是台超高压设计的fib-sem仪器
完全可定制的系统-超高压纳米空间可以定制，以便完全满足特定需求。
在选择时给予了完全的灵活性-fib柱、sem柱、注气系统和其他附加配件，视要求而定
高质量设计-优越的条件和独特的双光束几何允许
原位扫描电镜与优质二次钢的相关性
单个仪器中的离子质谱图像
高分辨率成像-纳米空间可以集成静电扫描电镜或，既能产生高质量图像的磁性扫描电镜
准确的样品控制-超高真空兼容6轴工作台允许装载样品，长度和宽度小于或等于100 mm
全自动仪器-纳米空间控制和成像软件,符合人体工程学，易于使用。真空系统完全关闭自动化，以确保安全，快速和方便的真空操作
特高压连接-特高压中间室的设计是为了确保与特高压第三方完全连接的仪表,系统、工艺集群或同步加速器束线
还可以配备超高压兼容的气体注入系统（gis），用于局部金属沉积和选择性蚀刻。也可以通过超高压中间室与第三方系统（如mbe集群、表面分析仪器）进行现场连接。这种连接性拓宽了纳米空间的应用范围。
vacuum performances
main chamber vacuum
5.10-10 mbar
uhv configuration
maximum instrument bakeout
temperature is 120°c
sample main chamber introduction
30 min