tf1200-pecvd型等离子增强化学气相沉积系统
产品简介：此款设备配有plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压cvd非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的cvd实验。
主要功能和特点：
1、利用辉光放电产生等离子体电子激活气相；
2、提高了气相反应的沉积速率、成膜质量；
3、可通过调整射频电源频率来控制沉积速率；
4、能广泛用于：石墨烯、siox、sinx、cnx、ticxny等薄膜的生长。
开启式真空管式炉技术参数
石英管尺寸 l1400mm  φ（60、80、100）
加热元件 掺钼铁铬铝合金电阻丝
测温元件 k型热电偶
加热区长度 410mm  
恒温区长度 200mm
工作温度 ≤1100℃
控温模式 模糊pid控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
控温精度 ±1℃
升温速率 ≤20℃/min
电功率 ac220v/50hz/3kw
质量供气系统技术参数
外形尺寸 600x600x600mm
标准量程 50sccm（ch4）、200sccm（h2）、500sccm（ar、n2）； 
数显压力表测量范围 -0.1mpa～0.15mpa
极限压力 3mpa
针阀 316不锈钢
截止阀 φ6mm 316不锈钢针阀
电功率 ac220v/50hz/20w
响应时间 气特性：1～4 sec，电特性：10 sec
准确度 ±1.5%
线性 ±0.5～1.5%
重复精度 ±0.2%
接口 φ6,1/4\'\'
真空系统技术参数
外型尺寸 600×600×600mm
工作电电压 220v±10%  50~60hz
功率 400w
抽气速率 4ls
极限真空 4x10-2pa
实验真空度 1.0x10-1pa
容油量 1.1l
进气口口径 kf25
排气口口径 kf25
转速 1450rpm
射频电源
信号频率 13.56 mhz±0.005%
功率输出范围 5-300w   5w-500w可选
最大反射功率 200w
射频输出接口 50 ω, n-type, female
功率稳定度 ±0.1%
谐波分量 ≤-50dbc
供电电压 单相交流（187v-253v） 频率50/60hz
整机效率 >=70%
功率因素 >=90%
冷却方式 强制风冷

---

昆山艾科迅机械有限公司
朱秀雷
18932679139