碱性蚀刻液及回用技术：
简介：
碱性蚀刻液属于低氨、低侧蚀碱性蚀刻盐或液，是为了细线路印刷电路板制造而设计之特殊药液，适用于高精密内层板和外层板蚀刻，其优异之稳定性及药液性能适用于包含干膜的所有抗蚀刻阻层。
蚀刻线的蚀铜液随着蚀刻过程的进行，铜含量逐渐上升，蚀刻速度变慢，溶液极不稳定，易形成泥状沉淀，无法满足蚀刻工序要求。此时补充新子液,溢流排出增量蚀刻液成为废液而被排放。采用萃取—反萃—电解法对蚀刻废液进行再生处理，消除和降低蚀刻废液中的铜离子，再合理调节其中的有效组分，补充添加剂恢复其原有的蚀刻性能，经膜处理后返回蚀刻工序循环使用。
特性：
子液：
1、侧蚀低，适用于高精内层板和外层板蚀刻。
2、低ph值，适用于干膜和其他之抗蚀刻阻层。
3、配合ph值和比重自动控制添加系统。
4、稳定性佳，不沉淀，易维护。
5、可调整之恒定高蚀刻速率。
6、高含铜量。
7、水洗性优异。
回用技术：
1、采用自主研发的多级错层连体混合澄清槽和混合-澄清室型萃取分离设备不仅能有效的将铜离子从蚀刻废液中分离出来，而且设备占地面积小，自动化程度高。
2、 整套系统设计成四个闭合循环回路：
①蚀刻液的闭路循环；
②电解液的闭路循环；
③萃取剂的闭路循环；
④油相洗水的闭路循环。
    ⑤废蚀刻液100%完全回收循环利用，真正实现了氨性蚀刻工序废水、废液的零排放和资源的循环利用。
   3、蚀刻液阴极电解铜质量高，纯度高达99.9%以上。
   4、再生蚀刻液质量稳定。

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