武汉纽瑞德气体： 
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四氟化碳
中文名称:四氟化碳
中文别名:四氟甲烷
英文名称:carbon tetrafluoride
英文别名:tetrafluoromethane
cas:75-73-0
einecs:200-896-5
分子式:cf4
分子量:88
物化性质:- 熔点:-184℃
相对密度:-128用途:用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作及制冷剂
产品细节
产品参数
四氟化碳产品质量标准
                                       quality standard for cf4
纯       度
cf4
≥99.9
≥99.99
≥99.999
氮       气
n2
≤300ppm
≤10ppm
≤3ppm
氧       气
o2
≤100ppm
≤5ppm
≤1ppm
水       分
h2o
≤10ppm
≤1ppm
≤1ppm
一 氧 化 碳
co
≤50ppm
≤1ppm
≤1ppm
二 氧 化 碳
co2
≤50ppm
≤1ppm
≤1ppm
酸       度
hf
≤1ppm
≤0.1ppm
≤0.1ppm
其它氟碳化合物
f-c
≤350ppm
≤2ppm
≤2ppm
六 氟 化 硫
sf6
≤50ppm
≤5ppm
≤1ppm
产品用途
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。
1. 可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
2. 在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、
泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
3. 由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
4. 四氟化碳的溶氧性很好，因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的深度内，小白鼠仍可安全脱险。
武汉纽瑞德气体

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刘春回
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