原子层沉积系统 原子层沉积设备 原子层沉积技术  薄膜沉积  ald
picosun™p系列原子层沉积系统量产ald系统定义了高产量ald的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的p系列原子层沉积设备ald确保了最大的产出效率，并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。picosun™p系列原子层沉积系统ald高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务picosupport™。根据用户的需求，确保每时每刻（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有最好的性能，完全满足您的需求。
picosun 原子层沉积系统p300-pro 引领全球工业和前沿r&d领域的薄膜方案
技术参数
衬底尺寸和类型
最大300mm晶圆/单片
200mm晶圆25片/批次（标准间距）
150mm晶圆50片/批次（标准间距）
100mm晶圆75片/批次（标准间距）
高深宽比（har）样品
工艺温度
50 –500 °c
基片传送选件
预真空室安装磁力操作机械手（load lock ）
半自动的机械装载
集群系统的批量装载（cassette-to-cassette ）
批量装载，带翻转传送系统（flipping mechanism）
真空批量装载
氮气柜装载
前驱体
液态、固态、气态、臭氧源、等离子体
源瓶容量传感器，并提供清洗和装源服务
6根独立源管线，最多加载12个前驱体源
重量
820 kg
尺寸 (w x h x d)
160 cm x 80 cm x 240 cm
选件
集群工具，picoflow™ 扩散增强器，集成椭偏仪，qcm，rga，n2发生器，尾气处理
器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载），与工厂软件连接服务。
验收标准
标准设备验收标准为 al2o3 工艺，
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用特别验收标准如：
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能

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销售部
18917370760