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离子溅射 磁控溅射 电镜制样 SEM扫描 电极制备 真空镀膜 Plasma

2021-8-13 17:19:00发布30次查看
联系人:黄经理
联系电话:18551070880
仪器简介:
hm-etd-2000c 溅射仪是依据二极(dc)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(sem)样品制备和非导体材料实验电极制作。
技术参数:
配置参数如下:
- 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(l×w×h) 
- 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(d×h) 
- 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(d×h) 
- 样品台: 50mm (d) 
- 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
- 工作电压: 0-1600v (dc)可调 
- 溅射电流: 0-50ma 
- 溅射定时: 1-9999s 
- 蒸碳电流 0-10a(ac) 
- 真空泵: 2升两级机械旋转泵(极限真空2×10-2mbar)

常州鸿明仪器科技有限公司

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